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產(chǎn)品中心

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心實(shí)驗(yàn)室常規(guī)儀器合肥科晶GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀
小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可以設(shè)定程序,精確控制溫度200ºC~1500ºC(或1200ºC~1700ºC),樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

產(chǎn)品型號(hào):GSL-1700X-SPC-2
更新時(shí)間:2022-11-21
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
訪問量:1653
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GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品概述:

GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺(tái)式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀,可以設(shè)定程序,精確控制溫度200ºC~1500ºC(或者1200ºC~1700ºC),樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

結(jié)構(gòu)&特點(diǎn):

  • 真空腔體為直徑6英寸的石英腔體,便于清潔和放入樣品
  • 安裝有一個(gè)2英寸的樣品臺(tái),并且樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn),使所制薄膜更加均勻
  • 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源,高溫度可達(dá)到1500℃,并且配用氧化鋁舟,可裝入樣品
  • 精確控溫:可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃ 
  • 氣體流量端口和閥門內(nèi)置用于腔室凈化和CVD可能性

基本參數(shù):

  • 溫度:高1500℃(1200℃以上<1h)
  • 建議升溫速率:≤20℃/ min(需根據(jù)工藝調(diào)整)   
  • 熱偶:B型或者S型熱偶
  • 電源:AC220V,50Hz
  • 大:6KW

溫控及加熱源:采用鎢絲籃作為發(fā)熱源,并且配有的氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測(cè)量和控制

  • 采用S型熱電偶(工作溫度為200℃-1500℃)
  • 可選B型熱電偶(工作溫度為1200℃-1700℃) 
  • 安裝有一個(gè)數(shù)顯的溫度控制器:可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1ºC(如圖2) 
  • 溫度控制器的時(shí)間設(shè)置以秒為單位,建議將升溫/降溫速率限制在1200ºC以下0.3ºC/s(20ºC/ min),在1200 - 1500ºC限制到0.15ºC/s(10ºC/min) 

儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝

樣品臺(tái):

  • 儀器頂部安裝有樣品臺(tái),直徑為Φ50mm,并設(shè)置有擋板,方便控制蒸發(fā)鍍膜時(shí)間 
  • 樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),增加鍍膜均勻性 
  • 樣品臺(tái)和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié)

進(jìn)氣口:

  • 進(jìn)氣接口為1/4NPS,可向真空腔體中通入惰性氣體,對(duì)腔體進(jìn)行清洗,也可通入反應(yīng)氣體,進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜 
  • 進(jìn)氣口安裝有一針閥,用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量 
  • 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀-GSL-1700X-EV4
  • 儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝,并用戶可額外選購鎢絲籃及氧化鋁坩堝

真空計(jì)(可選):可選購一數(shù)顯防腐真空計(jì),測(cè)量范圍為:3.8x10-5-1125Torr

膜厚檢測(cè)儀(可選):

  • 可在本公司選購精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å
  • LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
  • 同時(shí)可選購反射光譜薄膜測(cè)厚儀--TFMS-LD

真空系統(tǒng):

  • 設(shè)備上有一KF25接口用于連接真空泵 
  • 采用渦旋分子泵真空可達(dá)1.0E-5Torr,極限真空度可達(dá)4.0E-6Torr 
  • 雙極旋片真空泵或干泵,可使儀器真空腔體的真空度達(dá)到10-2Torr 
  • 真空度達(dá)到10-2torr時(shí),可蒸發(fā)一些貴金屬,參考材料金和鉑,也可蒸發(fā)一些有機(jī)材料,可選購數(shù)顯防腐真空計(jì)PCG-554(測(cè)量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.) 
  • 高真空度可達(dá)1.0E-5Torr(采用渦旋分子泵),此時(shí)可蒸發(fā)對(duì)氧敏感的材料,參考材料Al. Mg, Li,分子泵上帶有復(fù)合真空計(jì)
  • (高可測(cè)量真空度為1.0E-7Torr) 
  • 可在本公司選購各種真空泵和真空計(jì)
  • 可選購一個(gè)冷真空阱,以避免真空泵造成污染

外形尺寸:490mm*330mm*560mm

質(zhì)量認(rèn)證:所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA/CE認(rèn)證,若客戶出認(rèn)證費(fèi)用,本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證。

使用提示:

  • 為了獲得高真空度,可采用以下做法 
  • 此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作,用于蒸鍍一些在常溫下對(duì)氧氣敏感的材料,比如金屬Li等,可在本公司選購開啟式手套箱VGB-6

使用注意事項(xiàng):

  • 使用溫度高于1300℃時(shí),保溫時(shí)間不可大于1小時(shí),否則會(huì)損壞密封圈
  • 當(dāng)腔體的各閥門關(guān)閉時(shí),請(qǐng)勿開啟升溫程序或手動(dòng)調(diào)節(jié)電流進(jìn)行加熱
  • 當(dāng)儀器正在蒸發(fā)材料時(shí),不可打開泄氣閥或關(guān)閉真空泵,只有當(dāng)加熱溫度降至100℃時(shí),才可放氣或關(guān)閉真空泵 
  • 蒸鍍電流不宜大于40A 
  • 如誤將控溫儀表設(shè)為手動(dòng)狀態(tài),程序?qū)⒉荒苷_\(yùn)行 
  • 此設(shè)備儀表程序?yàn)槊耄?00℃之前升溫速度不宜大于0.5℃/S 
  • 如果用戶選購了STC-2型薄膜測(cè)厚儀,在選用取樣片時(shí)請(qǐng)按:鍍純金屬時(shí)用金取樣片,鍍合金時(shí)用銀取樣片 
  • 鎢絲籃必須在真空狀態(tài)下(<5Pa才能通電加熱,否則會(huì)被氧化)

GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

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